中微公司 第 1500 个 CCP 刻蚀设备反应台成功付运
发布时间：2021-11-03 19:29:45 所属栏目：经验 来源：互联网
导读：中微公司：第 1500 个 CCP 刻蚀设备反应台顺利付运2021-11-03 08:27IT之家 11 月 3 日消息，昨日，中微公司宣布，电容耦合高能等离子体（CCP）刻蚀设备第 1500 个反应台顺利付运国内一家半导体制造商。本次交付的 Primo D-RIE 刻蚀设备反应台来自该客户的重
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中微公司：第 1500 个 CCP 刻蚀设备反应台顺利付运
2021-11-03 08:27
IT之家 11 月 3 日消息，昨日，中微公司宣布，电容耦合高能等离子体（CCP）刻蚀设备第 1500 个反应台顺利付运国内一家半导体制造商。本次交付的 Primo D-RIE 刻蚀设备反应台来自该客户的重复订单。
IT之家了解到，中微公司表示，Primo D-RIE 刻蚀设备被芯片制造商用于制造存储和逻辑器件。为优化产量而设计，Primo D-RIE 可以配置多达三个双反应台反应腔，每个反应腔既可以独立操作，又可以同时加工两片晶圆。
自 2007 年 Primo D-RIE 发布以来，中微公司陆续拓展了 CCP 刻蚀设备产品线。CCP 刻蚀设备系列还包括双反应台刻蚀设备 Primo AD-RIE、单反应台刻蚀设备 Primo SSC AD-RIE、Primo HD-RIE 和刻蚀及除胶一体化的 Primo iDEA。
据介绍，这些产品用于 5 纳米及以下工艺的多种应用。中微公司的刻蚀设备产品线还包括其他两款电感耦合低能等离子体（ICP）刻蚀设备和硅通孔（TSV）刻蚀设备。 （编辑：大连站长网） 【声明】本站内容均来自网络，其相关言论仅代表作者个人观点，不代表本站立场。若无意侵犯到您的权利，请及时与联系站长删除相关内容! |
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